Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica

Resumen

O trabalho em questão está relacionado ao projeto e construção de uma fonte de alta tensão em corrente
contínua utilizando materiais e dispositivos adquiridos no comércio local visando sua aplicação no processo
de pulverização catódica. Essa técnica permite a deposição de filmes finos de metais, óxidos e nitretos sobre
substratos sólidos. Como teste de funcionamento e aplicação da fonte DC, com a mesma instalada em canhão
de pulverização em alto vácuo, filmes finos de diferentes espessuras de cobre, aço inoxidável 304 e
tungstênio foram depositados e estudados. Análise de espessura, morfologia, e resistência elétrica e
resistividade foram conduzidas. Filmes com resistividade elétrica dependente das espessuras foram obtidos.
A fonte DC se mostrou confiável em operação e permite a deposição de uma infinidade de materiais nas mais
diferentes espessuras sobre vários tipos de substratos.